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  • 產品名稱:StannoPure HSB PL 高速光亮純錫 HSB PL
  • 產品分類:鍍錫
  • 產品應用:25kg/桶
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StannoPure HSB PL 高速光亮純錫 HSB PL

發(fā)布時間:2019-09-16 16:56 作者:仁昌奧克 文章來源: 仁昌科技
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(一) 特點

 

StannoPure HSB 高速光亮純錫是一種不含氟硼酸根、低泡沫的純錫工藝。適用于片狀、線狀或連接器的連續(xù)生產電鍍。

 

StannoPure HSB 高速光亮純錫能產生良好均一的結晶、光亮的無鉛純錫鍍層,可焊性極佳。

 

StannoPure HSB 高速光亮純錫專為純錫電鍍而研發(fā)的工藝,通常用于電子電器裝置,以取替鉛錫電鍍工藝,及迎合禁用含鉛鍍層的國際要求。

 

StannoPure HSB 高速光亮純錫與其它光錫工藝相比,晶須產生的機會比較低。

 

StannoPure HSB 擁有以下優(yōu)點

 

操作容易

 

此工藝能通過簡單分析作維護;產生四價錫較少。

 

穩(wěn)定的添加劑

 

添加劑能用在廣闊的溫度范圍內。

 

簡單的廢水處理

 

因為鍍液不含氟硼酸根,所以廢水處理相對較容易;對設備的侵蝕也減少。

 

(二)鍍液組成及操作條件

 

建議100升開缸量

甲基磺酸液 SOLDERPLATE(945 克/升游離甲基磺酸)

16.0

21.6

甲基磺酸錫 SOLDERPLATE (300 克/升 Sn2+)

15.0

23.3

高速光亮純錫 HSB 走位劑

2.0

2.0

高速光亮純錫 HSB 光亮劑

0.4

0.4

純水

66.6


 

建議工作濃度

二價錫

[g/l]

45 (30 – 60)

游離甲基磺酸

[g/l]

160 (140 – 220)

高速光亮純錫 HSB 走位劑

[ml/l]

20.0 (15.0 – 25.0)

高速光亮純錫 HSB 光亮劑

[ml/l]

4.0 (3.0 – 6.0)


工作參數(shù)

溫度

30 °C (25 – 38 °C)

電壓

約 1 – 3 伏

電流密度

陰極:

20 A/dm2 (10 – 50 A/dm2)

強極:

2.0 – 5.5 A/dm2

要點:

要達到最大的陰極電流密度,錫濃度及酸濃度是主要影響因素

電流效益

90 – 100 %

沉積速度

10 微米/分鐘(當 20 A/dm2

要點:


要達到最大的陰極電流密度,錫濃度及酸濃度是主要影響因素




() 配制鍍液

 

 

在開缸之前,請小心檢查鍍槽及設備,以防泄漏。

 

 

1. 若鍍槽之前是在類似的甲基磺酸系統(tǒng)下使用,請將所有鍍液(包括所有喉管、過濾裝置及泵)排放干凈;

 

2.  50-100 毫升/升的甲基磺酸液 SOLDERPLATE 清洗所有鍍槽,喉管及過濾系統(tǒng),最少 3 小時,浸泡過夜更佳

 

若鍍槽是新的,或有使用過潤滑劑、活性劑,建議用 50-100 克/升氫氧化

 

鉀作預洗,再作以后的清洗步驟。

 

3. 排放所有已清洗的甲基磺酸液 SOLDERPLATE(注意當?shù)氐呐欧乓?guī)則),并以純水沖洗鍍槽、所有喉管及過濾系統(tǒng),更換過濾芯;

 

4. 注入半缸純水;

 

5. 加入所需份量甲基磺酸液 SOLDERPLATE,并加以攪拌;

 

6. 待溶液溫度降至 35℃,加入所需份量的甲基磺酸錫 SOLDERPLATE 并加以攪拌;

 

7. 加入高速光亮純錫 HSB 走位劑,其后再加入高速光亮純錫 HSB 光亮劑;

 

8. 加入純水至標準水位,開動過濾泵循環(huán),約 15 分鐘;

 

9. 鍍液已可使用。

 

(四)設備

鍍槽

聚丙烯,聚乙烯,聚二氯乙烯或塑料內層鋼鐵

攪拌

陰極移動及鍍液攪拌(高速沉積速度)

過濾

連續(xù)過濾,無氣體 1-5 微米的聚丙烯過濾芯。建議每小時能過濾整缸鍍液 5-8 次。

抽氣

需要。

加熱/冷卻

PTFE,鈦,陶瓷。

陽極

純錫陽極。若需要時,可用鈦籃裝載純錫陽極,但要保證使用電壓低于 6 伏。鈦籃必須保持常滿,以防止對鈦籃的侵蝕。

如果陽極電流密度過高,會導致不平均的陽極溶解,形成四價錫的出現(xiàn)。

陽極袋

聚丙烯。

 

五)補充及維護

 10,000 安培小時

高速光亮純錫 HSB 光亮劑

2.0 – 4.0

高速光亮純錫 HSB 走位劑

1.0 – 2.0

      

高速光亮純錫 HSB 光亮劑及高速光亮純錫 HSB 走位劑的消耗,取決于應用條件、設備及操作條件。帶出消耗亦會影響消耗量。

 

游離甲基磺酸只有帶出消耗 建議定期分析

甲基磺酸錫 SOLDERPLATE

300 克/升 Sn2+,60 克/升游離

甲基磺酸,密度 1.54

每補充 3.33 毫升/升甲基磺酸錫 SOLDERPL

錫濃度 1 克/升

游離甲基磺酸 0.2 克/升。

甲基磺酸液 SOLDERPLATE

945 克/升游離甲基磺酸,70%

密度 1.35

每補充 1.06 毫升/升甲基磺酸液 SOLDERPLATE,能增加游離甲基磺酸 1 克/升。

 

注意:補充甲基磺酸錫 SOLDERPLATE 會增加游離甲基磺酸

 

() 注意事項 /  操作要點

 

操作要點

 

在含鋅金屬基材上電鍍之前(例如黃銅),建議先鍍上鎳或銅作為中間層。

 

跟據(jù)國際標準 ISO 2093(電鍍錫層 - 詳細規(guī)格及測試方法)第 9 點規(guī)定,在黃銅基材與錫層之間的中間層(鎳及銅),最少為 2.5 微米。

 

此中間層是防止鋅擴散到錫層表面,影響可焊性測試。

 

在鍍錫之前,建議先以 5-10% v/v 的甲基磺酸液 SOLDERPLATE 預浸,預防帶入污染。

 

氯離子對錫層是有害的,所以應避免使用鹽酸處理。鎳鍍液(含氯離子)的帶入亦應避免。氯離子及氟離子能侵蝕陽極鈦籃,若需要由氟硼酸系統(tǒng)轉缸致 StannoPure HSB 高速光亮純錫,必須澈底清洗(可參考“配制鍍液”)。

 

后處理

StannoPure HSB 高速光亮純錫鍍液是強酸性。若電鍍后沒有足夠清洗,錫層會于短時間內被氧化,形成明顯的黑點,影響可焊性測試。

 

所以,在弱水洗條件下(例如滾鍍),強烈建議在最后清洗之前,使用中和的后處理。

 

建議使用錫層中和保護劑 POSTDIP SN 作中和處理。

 

 

  

 

   ★重要說明

此說明書中涉及到關于我公司產品的信息和建議,是以我公司的實驗理論及資料為基礎,由于表面處理工藝的特殊性及我們也無法控制產線的實際操作,故我公司不能保證及負責任何不良后果,要取得良好的使用效果,請咨詢我&a

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